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西安交通大学 - 竞价结果详情  (CB106982018001198)

发布时间: 2018-05-17 17:36

基本信息:
申购单主题: 超高精度微纳3D打印系统
申购单类型: 竞价类
设备类别: 专用设备
使用币种: 人民币
竞价开始时间: 2018-05-17 17:36
竞价结束时间: 2018-05-21 12:00 竞价已结束
申购备注:
 
申购设备详情:
中标供应商 设备名称 数量 品牌 型号 售后服务 规格配置 中标单价 中标理由
深圳摩方材料科技有限公司 超高精度微纳3D打印系统 1 BMF nanoArch P140 按行业标准提供服务 1、设备工艺:微立体光刻工艺(面曝光) 2、打印精度(XYZ):≤ 10 微米 3、打印范围:不小于14.5(长)×8.2(宽)45×(高)mm3,可升级到不小于70(长)×40(宽)45×(高)mm3 4、光源:UV-LED,405nm固化波段 5、曝光分辨率:≤ 7.6 微米 6、打印材料:支持高精度树脂,高温树脂,纳米颗粒掺杂树脂,生物医疗树脂,透明树脂,硬性树脂,柔性树脂 7、精密控制Z轴:重复定位精度 ≤ 0.5 微米 8、精密涂层系统: (a) 涂层膜厚≤ 50μm (b) 涂层膜透过率≥ 90\\\\\\% 9、打印机隔振平台: -固有频率垂直:1.0~2.0Hz 水平:1.0~2.0Hz -隔振效率: 垂直:5Hz时:82~88\\\\\\% ;10Hz时:86~95\\\\\\%;水平:5Hz时:78~86\\\\\\% ; 10Hz时:84~92\\\\\\% -重复定位精度: ±0.1mm 394400.0 总价最低原则